半導(dǎo)體研磨廢水處理方法
【純水設(shè)備http://m.twkcr.cn】零排放 近年來(lái)，隨著科技的一直提高和國(guó)民需求的日益增添，我國(guó)半導(dǎo)體消費(fèi)行業(yè)得到了較快的發(fā)展，然而隨之而來(lái)是少量的半導(dǎo)體廢水排放問(wèn)題，那么下面皙全環(huán)保就跟大家聊聊半導(dǎo)體研磨廢水處理方法。
在集成電路封裝制作過(guò)程中會(huì)對(duì)晶片進(jìn)行切割和研磨，并且會(huì)運(yùn)用超純水進(jìn)行洗凈，這樣就發(fā)生了少量的切割研磨廢水。目前國(guó)內(nèi)很多的廠家是采取加藥混凝積淀和濾袋過(guò)濾方法處理的，出水到達(dá)污水綜合處理達(dá)標(biāo)排放的規(guī)范。
半導(dǎo)體研磨廢水的處理方法，純水設(shè)備其特性在于，包含如下步驟：
（1）通過(guò)廢水搜集箱搜集硅片研磨發(fā)生的廢水；
（2）應(yīng)用水泵將廢水泵入多介質(zhì)過(guò)濾器進(jìn)行一次過(guò)濾；
（3）將經(jīng)過(guò)一次過(guò)濾的水送入保安過(guò)濾器進(jìn)行第二次過(guò)濾，所述的保安過(guò)濾器用于掩護(hù)超濾膜；
（4）將經(jīng)過(guò)第二次過(guò)濾的水送入超濾膜過(guò)濾安裝中進(jìn)行第三次過(guò)濾；
（5）通過(guò)SDI測(cè)定儀或許濁度儀測(cè)定并判定經(jīng)過(guò)第三次過(guò)濾的水能否契合欲先設(shè)定的規(guī)范請(qǐng)求，如契合規(guī)范請(qǐng)求，送入產(chǎn)水箱；純水設(shè)備，工業(yè)純水設(shè)備, 蘇州水處理設(shè)備，醫(yī)用GMP純化水設(shè)備 ，醫(yī)用水處理設(shè)備。
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